兩大制程環境(jìng)

一、淨(jìng)化防護環境
空(kōng)氣中(zhōng)充(chōng)滿(mǎn)灰塵(chén)粒子，而這(zhè)些灰塵粒(lì)子(zǐ)除了影響産品外(wài)觀，還會在(zài)半導體中(zhōng)形成導電(diàn)。因此，淨化(huà)工程技術在微(wēi)電子技術(shù)中起(qǐ)着十分重(zhòng)要的作用，根據(jù)産品(pǐn)不同，生(shēng)産流程(chéng)中(zhōng)須(xū)建立(lì)不同級别的淨(jìng)化室。此外(wài)，光纖工業(yè)、液(yè)晶顯示(shì)工業(yè)、生物工程、醫藥(yào)工業(yè)也對(duì)淨利化技(jì)術及産品(pǐn)有巨大的(de)需求。

二(èr)、防(fáng)靜電(diàn)環境
産品的(de)移(yí)動、摩(mó)擦及空氣的流(liú)動均可能(néng)産生上(shàng)萬(wàn)伏高壓電荷，形成靜(jìng)電。在所有的半導體(tǐ)生産領域，由于靜電(diàn)的負(fù)面效(xiào)應，使得保(bǎo)持高(gāo)水(shuǐ)準的産(chǎn)品質量和成(chéng)品(pǐn)率變(biàn)得更(gèng)加困(kùn)難。缺少靜電控(kòng)制，将(jiāng)導(dǎo)緻(zhì)微粒(lì)污(wū)染，靜(jìng)電放電(diàn)損壞和設備(bèi)故(gù)障。随着電子産業向高(gāo)度(dù)集成(chéng)化、精(jīng)密(mì)化的發(fā)展，防靜電技術(shù)成爲(wèi)電子制造業重點關(guān)注的技術之(zhī)一。

 

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